艾司摩尔三度上修展望 台积法说前释 AI 需求强劲讯息

台积电（2330）今（16）日将举行法说会，重要伙伴全球晶片微影技术龙头艾司摩尔 （ASML）昨日财报抢先报喜，并且第三度上修全年营运展望，强调AI投资带动客户不断加速扩产，带旺半导体市况。

业界认为，艾司摩尔看好AI带动半导体业投资动能，意味整体晶片需求强劲，晶片制造商必须增加添购艾司摩尔的设备来扩产，这也透露台积电接单畅旺，将是这波AI带起的半导体热潮下主要受惠厂商。

艾司摩尔结算，上季营收93亿欧元，年增逾21%；毛利率54%，主要动能来自销售与累积装机管理收入高于预期；净利29亿欧元，年增逾27%。营收、毛利率均优于预期。

艾司摩尔并公布第3季财测，预估销售净额约110亿欧元至120亿欧元间，毛利率预估约55%至57%。

艾司摩尔执行长福克（Christophe Fouquet）指出，AI相关领域投资与技术持续发展，正带动先进逻辑与储存晶片需求成长，进一步强化半导体产业成长前景。客户因应此趋势，正不断加速产能扩张计划，并转换成对艾司摩尔的承诺，增加未来市场需求的能见度。

艾司摩尔并三度上调2026年展望，最新预估全年总净销售额达430亿欧元至450亿欧元，毛利率介于54%至56%之间。

艾司摩尔最新年度财测较元月提出的第一版营收目标调高15.8%。业界看好，该公司三度调高全年展望，代表AI推动半导体成长趋势无庸置疑。

艾司摩尔指出，今年低数值孔径极紫外光（Low NA EUV）微影设备产能为65台。福克透露，今年上半年订单量仍然非常强劲，基于此成长动能，预计明年将Low NA EUV微影设备产能增加30%，2028年再扩增30%。

艾司摩尔今年浸润式DUV微影系统产能为130台，规划2027年、2028年都要再各增加三成产能，并且持续大幅扩展设备升级产品组合服务。

艾司摩尔并宣布，携手英特尔让High NA EUV技术迈入新里程碑，英特尔晶圆代工已将ASML EXE High NA EUV技术用于量产部分代号为Panther Lake的处理器。

英特尔并将旗下18A制程特定层数于美国奥勒冈州完成High NA EUV制程双重验证，产品良率达到与 NXE平台相当水准，并开始出货给客户。双方将持续深化合作，推进High NA EUV技术导入，并依据客户需求，灵活应用于未来制程节点。

本文转自：TNT时报